В Китае разработан фотолитограф EUV - но пока что не поставлен на производство
Reuter пишет о том, что в Китае в начале 2025 года создан прототип фотолитографа EUV, который сейчас проходит испытания. По данным Reuters машину создали экс-сотрудники ASML методом обратного проектирования.
Китайская установка работает и успешно генерирует экстремальное ультрафиолетовое излучение, но пока не производит работающие чипы, сообщили источники.
По словам двух источников, наличие на вторичных рынках комплектующих от старых установок ASML позволило Китаю создать отечественный прототип, и правительство поставило цель произвести работающие чипы на этом прототипе к 2028 году.
Те, кто близок к проекту, говорят, что более реалистичной целью является 2030 год.
Этот прорыв знаменует собой кульминацию шестилетней правительственной инициативы по достижению самообеспеченности полупроводниками, одного из главных приоритетов Китая.
«Цель состоит в том, чтобы Китай в конечном итоге смог производить передовые чипы на машинах, полностью произведенных в Китае», — сказал один из источников. «Китай хочет, чтобы Соединенные Штаты были полностью исключены из его цепочек поставок».
@RUSmicro