🇳🇱 🇪🇺 Фотолитографы (степперы). Оборудование для производства микросхем. Нидерланды. Европа

ASML и Zeiss - технология производства чипов следующего поколения Hyper NA может быть готова через 10 лет

Преемник самого передового в мире литографического оборудования ASML, оборудование Hyper NA, может быть готово примерно через 10 лет, сообщили инженеры компании и ее партнера в области оптических решений Carl Zeiss в рецензируемой научной работе. Установка Hyper NA с планируемой апертурой около 0.75 вместо 0.55 у High NA, позволит печатать более мелкие элементы микросхем, при этом во многом будет опираться на уже существующие технологии компаний, хотя определенные трудности сохраняются. Такая установка уже разрабатывается, но ASML не анонсировала твердых планов о запуске ее производства.

В статье, опубликованной в октябрьском выпуске Journal of Micro/Nanopatterning, Materials and Metrology, говорится, что Hyper NA сможет обеспечить возможность печати элементов узлов с разрешением всего 5 нм (не путать с плотностью размещения узлов на кристалле) - более чем на треть меньше, чем то, на что способна нынешняя установка ASML High NA EUV.

Производители чипов научились достигать все более высокой плотности размещения узлов на чипе, например, с помощью трехмерных архитектур, способность «рисовать» элементы узлов еще более малого размера – это ключевой фактор для повышения скорости работы микросхем и их энергоэффективности. Литография на сегодня выступает ограничивающим фактором. Intel уже начала использовать High NA в производстве, в то время как Samsung и SK Hynix в прошлом месяце заявили, что последуют их примеру в 2028 году, а TSMC - в 2030 году.

В статье отмечается, что Zeiss уже способна изготавливать зеркала с точностью, достаточной для Hyper NA, а машина, как ожидается, будет лишь немного крупнее установок High NA. По словам авторов, Hyper NA будет, вероятно, последним поколением оборудования, которое сможет использовать существующие источники света, которые применяются в High NA. Впрочем, если разработчики решат использовать альтернативную технологию с лазерами на свободных электронах, это не потребует существенных изменений существующей конструкции системы освещения. ||

✓ Подпишитесь на RUSmicro в Telegram | в Max