💬 Какие процессы используются для получения финишных покрытий?

Продолжение темы финишных покрытий, в которой уже поговорили о том, какие функции они выполняют. Для того, чтобы разобраться в способах получения всего разнообразия финишных покрытий, нужно понимать, какие типы физических и химических процессов используются.

Всего можно выделить 5 процессов, которые используются при формировании покрытий:

1️⃣ Адгезия материала покрытия в жидкой фазе к меди
🔸Медь можно напрямую покрыть защитным слоем. Материал покрытия в жидкой фазе наносится на контактные площадки и затем затвердевает.
▫️Такой процесс используется для нанесения свинцового/бессвинцового лужения (HASL) и графитового покрытия контактных групп (carbon print).

2️⃣ Процесс адсорбции
🔸Материал финишного покрытия адсорбируется из специального раствора на поверхность меди, пока платы находятся в ванне с данным раствором.
▫️С помощью этого процесса получают органическое защитное покрытие (OSP).

3️⃣ Гальваническое осаждение металла (электролиз)
🔸Используется процесс осаждения на электродах растворенных веществ, осуществляющийся при прохождении тока через раствор электролита. Ионы металлов движутся к катоду, а отрицательные ионы кислотных остатков и гидроксильной группы движутся к аноду. Контактные площадки печатной платы в данном случае выступают в роли катода – на них и осаждается один или несколько защитных слоев металла.
▫️Электролиз применяется для осаждения слоев металлов при формировании покрытий Flash Gold, Soft Gold и Hard Gold.

4️⃣ Химическое осаждение металла (англ. electroless)
🔸Химическое осаждение происходит в результате окислительно-восстановительной реакции. При такой реакции толщина осаждаемого металла увеличивается в течение всего времени нахождения платы в ванне с раствором. Таким образом, толщина осаждаемого слоя контролируется за счет времени нахождения плат в ванне. При помощи химического осаждения получают толщину слоя металла порядка 3-6 мкм.
▫️Процесс применяют для осаждения подслоя никеля для ENIG и для осаждения подслоев никеля и палладия в ENEPIG.

5️⃣ Иммерсионное осаждение слоя металла
🔸В данном случае используется реакция замещения. Толщина осаждаемого (иммерсионного) слоя будет расти со временем, но с ростом толщины скорость осаждения будет падать. Таким образом, данный химический процесс будет самоограничивающимся. Толщина полученного слоя редко будет превышать 0.1 мкм (100 нм), а типовое значение составит 0.05 мкм (50 нм).
▫️Процесс применяется для осаждения слоя золота в ENIG и ENEPIG, а также для осаждения иммерсионного олова (ImSn) и иммерсионного серебра (ImAg).

#финишныепокрытия