Учёные научно-исследовательской лаборатории инженерной химии НИИ химии Университета Лобачевского запатентовали способ глубокой очистки нанопорошка диоксида кремния (SiO2) для микроэлектроники и разработали подход к комплексному управлению свойствами этих наночастиц.
Что даёт разработка:
✔️ Получение частиц с заданным размером и формой, высокой однородностью, стабильностью и низким содержанием примесей — именно эти характеристики определяют возможность их использования в производстве микросхем.
✔️ Изобретение предназначено для химико-механической полировки (ХМП) полупроводниковых пластин, а также процессов, требующих высокочистых абразивных наноматериалов.
✔️ Полирующие суспензии обеспечивают прецизионную обработку поверхности с точностью до субнанометров и играют ключевую роль в ХМП-процессах.
🏭 Учёными ННГУ разработаны технологическая линия и регламент получения продукта — создана устойчивая суспензия, которая направлена на апробацию индустриальному партнёру. Работа ведётся с 2024 года в рамках стратегического проекта «Новые материалы для микроэлектроники» федеральной программы «Приоритет-2030».
Сегодня проект находится на этапе опытно-технологической отработки: исследовательская часть по подбору состава и условий синтеза в значительной степени завершена, основное внимание уделяется подтверждению стабильности технологии при масштабировании и испытаниям с индустриальным партнёром.
«Создание отечественной компонентной базы для микроэлектроники – одна из ключевых задач, стоящих перед страной. Наша цель – обеспечить полный цикл от фундаментальных исследований до серийного внедрения», – отметил ректор ННГУ Олег Трофимов.
📸 Фото: ННГУ
#Микроэлектроника
💬 ё-Пром в Телеграм
💬 ё-Пром в МАКС