🇷🇺 Производственное оборудование. Фотолитографы. 10нм. Россия

В России литограф с поддержкой техпроцессов 10нм появится к 2037 году

В Институте физики микроструктур Российской академии наук подготовили дорожную карту по разработке и созданию отечественных EUV-литографов. Об этом рассказывает iXBT.

Это не будет реверс-инжиниринг изделий ASML. В российских разработках будет задействованы гибридные твердотельные лазеры, источники света будут основаны на ксеноновой плазме с зеркалами из рутений и бериллия вместо линз.

Этот подход обещает сокращение расходов на обслуживание.

Но и до 2037 года будут появляться более совершенные фотолитографы российской разработки.

В частности, в период 2026-2028 - под 40нм (скоростью в 5 пластин в час).

В период 2029-2032 - 14нм, скорость более 50 пластин в час.

В период 2033-2035 - менее 10 нм, скорость - более 100 пластин в час.

@RUSmicro, источник фото: ИФМ РАМ/Dmitrii Kuznetsov