🇷🇺 Производственное оборудование. Производство микросхем. Россия

Компания НИИТМ показала две свои разработки

В очень небольшом видео на Rutube компания НИИТМ показала свою установку газофазной эпитаксии ЭПИФАЗ ТМ 200-01 (позволяет проводить эпитаксию нитрида галлия на кремниевых пластинах диаметром до 200 мм), а также установку быстрого термического отжига – БТО ТМ 200-01 под пластины 150 и 200 мм, разработанную по заказу Минпромторга.

В видео практически нет какой-либо информации о возможностях или сроках доступности, планах выпуска и т.п. Подробности желающим обещают дать на своем стенде на форуме Микроэлектроника 2025.

Кроме того, сообщается, что в НИИТМ завершаются ОКР на установки ПХТ и ПХО для работы с пластинами 300 мм (есть возможность работы с пластинами 200 мм). Каждая из установок – 4 технологических модуля, объединенных общей транспортной системой. Тоже - без подробностей.

Установку ПХО в НИИТМ разрабатывали еще с конца 2021 года. Система управления и ПО – российской разработки. Завершение испытаний и готовность систем ПХО и ПХТ к эксплуатации возможна до конца 2025 года.

@RUSmicro