Такое оборудование считается одним из ключевых элементов современного производства микросхем. Как сообщает The Information со ссылкой на свои источники, первые установки уже в этом году планируется поставить крупнейшим китайским производителям чипов — SMIC, Hua Hong Semiconductor и ChangXin Memory Technologies (CXMT).
По данным издания, в течение 2026 года производитель намерен выпустить около пяти таких машин, а уже в 2027-м увеличить объем производства примерно до двадцати установок.
Большая часть компонентов нового оборудования производится внутри Китая, хотя некоторые критически важные узлы закупаются в Японии. Именно сложности с поставками этих компонентов пока ограничивают темпы серийного производства.
Иммерсионная DUV-литография — одна из самых сложных технологий, используемых для изготовления современных микросхем. Такие установки позволяют выпускать чипы по техпроцессу около 28 нм за один цикл экспозиции, а при использовании технологии многократной экспозиции (multiple patterning) способны производить и микросхемы уровня примерно 7 нм. Запуск собственного производства литографов происходит на фоне усиливающегося давления со стороны США.
Фото: SMIC