Оборудование следующего поколения для производства чипов поколения будет готово через 10 лет

Преемник самой современной машины для производства микросхем компании ASML может появиться примерно через 10 лет, сообщили инженеры компании и ее партнера по оптике Carl Zeiss в рецензируемой научной статье.

Оборудование, получившее название Hyper NA, позволит печатать микросхемы меньшего размера, используя большую часть существующих технологий ASML.

Машина, которую начала разрабатывать компания ASML, но выпуск которой еще не налажен, важна для будущих перспектив компании, а также ее партнеров и конкурентов.
Компания является самой ценной по рыночной капитализации в Европе благодаря своей монополии на инструменты для литографии, которые используют экстремальный ультрафиолетовый свет (EUV) для печати крошечных схем чипов искусственного интеллекта.
В статье, опубликованной в октябрьском номере журнала Journal of Micro/Nanopatterning, Materials and Metrology, говорится, что Hyper NA может печатать элементы размером до 5 нанометров, что более чем на треть меньше, чем у нынешнего оборудования EUV с «высокой числовой апертурой» от ASML.
Несмотря на то, что производители чипов совершенствуют их с помощью 3D-дизайна, уменьшение размеров элементов остается ключевым фактором для повышения скорости и энергоэффективности, а литография является сдерживающим фактором.

В статье утверждается, что компания Zeiss уже может изготавливать зеркала с достаточной точностью для Hyper NA, и что машина будет лишь немногим больше инструментов с высоким показателем преломления, которые уже размером с двухэтажный автобус.

По словам авторов, для инструментов с показателем преломления ниже Hyper NA, скорее всего, потребуется использовать более короткую длину волны света, что пока является предметом академических исследований.
Они заявили, что текущий источник света компании ASML «может быть использован в неизменном виде» для Hyper NA, при этом отметив, что альтернативный метод с использованием лазеров на свободных электронах не изменит конструкцию системы освещения.
Эти замечания актуальны для американских стартапов, в том числе xLight, который разрабатывает источники света на основе лазеров на свободных электронах, которые, как намекнул Илон Маск, могут быть востребованы на его заводе по производству чипов Terafab в Техасе, а также для Substrate, который занимается рентгеновской литографией.

#новостиэлектроники