Создан опытный образец самого передового в России литографа для производства чипов

В России создана установка проекционного переноса изображений для производства интегральных схем с проектными нормами 130 нм. Оборудование разработал «Зеленоградский нанотехнологический центр» (ЗНТЦ) в кооперации с белорусским «Планар».

Оборудование предназначено для проекционного переноса изображения топологического рисунка интегральных схем на полупроводниковые пластины диаметром до 200 мм и мультипликации его на пластине при изготовлении сверхбольших интегральных схем (СБИС) с проектной топологической нормой 130 нм.

https://www.cnews.ru/news/top/2026-08-12_v_rossii_sozdan_opytnyj_obrazets

🤩 в МАХ 💬| ВК 💙