ASML готовит литографию нового поколения — Hyper NA через 10 лет уменьшит элементы чипов более чем на треть

Преемник самой передовой технологии ASML для производства микросхем может появиться примерно через десять лет — на смену High NA EUV придёт Hyper NA EUV. Об этом написали в рецензируемой статье инженеры нидерландской компании, а также сотрудники поставляющей ей оптику фирмы Carl Zeiss.

https://3dnews.ru/1149660/asml-gotovit-litografiyu-novogo-pokoleniya-hyper-na-cherez-10-let-umenshit-elementi-chipov-bolee-chem-na-tret

🤩 в МАХ 💬| ВК 💙