🇩🇪 Zeiss SMT открыл первый корпус расширенного производства EUV-оптики в Оберкохене

🏗️ ZEISS SMT завершила первый этап расширения своей основной площадки в Оберкохене, где выпускается высокоточная оптика для литографических систем ASML. Строительство нового офисного корпуса стартовало в мае 2022 года. В дальнейшем компания будет поэтапно вводить производственные здания. Общая площадь новых производственных и вспомогательных помещений составит около 25 тыс. м².

📍 Оберкохен и Вецлар остаются единственными площадками в мире, способными выпускать комплектные оптические системы для сканеров ASML. ZEISS является единственным поставщиком зеркал, линз, осветительных систем, коллекторов и ряда других критически важных оптических компонентов. В 2025 году объем закупок ASML у ZEISS SMT и связанных с ней компаний достиг примерно 4,8 млрд долл. США против 4,3 млрд долл. США в 2024 году и 3,6 млрд долл. США в 2023 году.

📈 Расширение площадки напрямую связано с планами ASML нарастить выпуск EUV-оборудования. В 2026 году компания рассчитывает поставить около 65 сканеров Low-NA EUV, а в 2027 году увеличить соответствующие мощности примерно на 30%. Еще одно увеличение на 30% рассматривается на 2028 год. Параллельно ASML сокращает цикл сборки литографических установок примерно с 22 до 15–16 недель, поэтому производительность ZEISS становится одним из ключевых ограничений для дальнейшего роста выпуска.

☝️ При этом в годовом отчёте ASML прямо указывается, что количество систем, которые компания способна производить, ограничено производственными мощностями ZEISS SMT. Фактически именно немецкая площадка выступает узким местом всей цепочки EUV-сканеров, определяя верхний предел масштабирования выпуска.

🪩 Особенно сложным остается производство оптики для High-NA EUV. Проекционная система содержит более 40 тыс. компонентов, весит около 12 т и примерно в семь раз превосходит стандартную EUV-оптику по массе и объему. Осветительная система включает еще около 25 тыс. деталей и весит 6 т. Отдельные зеркала весят несколько сотен килограммов, примерно вдвое крупнее и в десять раз тяжелее зеркал современных EUV-систем. Для их проверки используется специальная вакуумная камера размером 5 × 10 м, которая состоит более чем из 100 тыс. деталей и весит свыше 150 т.

Новые площади позволят ZEISS вести больше производственных и контрольных операций параллельно. Однако само расширение не сокращает многомесячную механическую обработку, нанесение покрытий и аттестацию оптических элементов, поэтому оптика продолжит определять предельные темпы масштабирования выпуска EUV-сканеров.

💬 Электронное машиностроение в МАХ

#ЭлМаш #технологии #EUV #ZEISS #ASML