🇷🇺 Оборудование для производства микросхем. Электронно-лучевые литографы. ЭЛЛ. Россия

В России создана установка электронно-лучевой литографии (безмасочной) на 150 нм

Пока что речь идет об опытных установках ЭЛЛ, но «раскопанный» CNews тендер на их перевозку означает, что установки отправились на испытания, скорее всего, на производственные предприятия.

Изготовитель, в лице гендиректора ЗНТЦ Анатолия Ковалева, подтвердил, что два опытных образца проходят комплекс испытаний, которые завершатся осенью, далее предусмотрен следующий комплекс испытаний – на точность изображение и другие технические параметры.

Собственный электронно-лучевой литограф - актуальная разработка для России с типичными для нашего рынка малыми объемами заказов на микросхемы. Такие установки неплохо подходят для малосерийного производства, поскольку позволяют сразу «рисовать» микросхемы, не тратясь на недешевую маску. Удобны эти установки и для прототипирования и НИОКР, ускоряя процесс разработки и исследований.

ЭЛЛ, кроме того, можно использовать для изготовления масок для зрелых процессов фотолитографии.

Если говорить о возможных сложностях, то стоит упомянуть о проблемах обеспечения равномерности рисунка по всей площади пластины - это требует тщательной метрологии, качества управления пучком. Нужны электронно-чувствительные резисты, которые тоже предъявляют немалые требования к качеству.

В заметке не говорится, под какие размеры пластин создана установка. Предполагаю, что это 150 мм, но возможно, есть совместимость и с 200 мм. Это нужно уточнять. Как и то, имеет ли эта разработка ЗНТЦ какое-то отношение к ЭЛЛ под 150 нм, которую разрабатывали в зеленоградском НПО ЭСТО?

UPD: как мне подсказывают в чате, да, совместная разработка ЗНТЦ-ЭСТО. Осталось выяснить размер пластин, с которыми она может работать. ||

✓ RUSmicro в Telegram l на MForum | Max