(2) Проблемы

🔹 Источник света. Для экономически эффективного и технологически стабильного производства на 90 нм и тоньше нужен ArF-лазер с длиной волны 193 нм. В России эту задачу может решить компания «Оптосистемы», предположительно.

🔹 Оптика. Это, пожалуй, ключевая проблема. Производство высокоточных линз из специальных материалов (например, фторида кальция) для 193 нм - это очень сложно. В России такая оптика вряд ли производилась. Санкции делают ее закупку за рубежом практически невозможной, а создание собственного производства - сложнейший и долгий проект.

🔹 Механика. Прецизионный рабочий столик с нанометровой точностью позиционирования - не менее сложный компонент. Без него невозможен ни один современный литограф. Это требует уникальных компетенций в области мехатроники и систем управления.

Что из этого следует?

Даже если разработка литографа для 90 нм действительно начнется в 2026 году, быстрых практических результатов я бы не ожидал.

Вероятный сценарий: сначала будет завершена работа над базовой установкой на 130 нм, затем на ее основе начнется создание прототипа для 90 нм. Это займет не один год. Появление промышленного образца, готового к серийному выпуску микросхем, - задача на вторую половину десятилетия, а то и на начало 2030-х годов.

✓ подписаться на канал ; другие площадки RUSmicro: MForum и Чипы и чиплеты в VK