TGViewer
RUSmicro RUSmicro @rusmicro · 5.77K subscribers
Post #7922 1.17K
🇺🇸 Субнанометры. Партнерства. США

IBM и Lam Research объединяют усилия для разработки логики суб-1 нм

Американские компании IBM и Lam Research на днях объявили о расширении многолетнего сотрудничества, нацеленного на разработку процессов и материалов для производства чипов с проектными нормами менее 1нм.

Пятилетнее соглашение предполагает совместную работу над созданием новых материалов, передовых процессов травления и осаждения, а также адаптацию High-NA EUV-литографии для нужд будущих техпроцессов.

Детали сотрудничества

Разработками займутся в исследовательского комплекса NY Creates в Олбани, - это один из ключевых центров полупроводниковых исследований в США. Lam предоставит оборудование для травления Kiyo и Akara, системы осаждения Striker и ALTUS Halo, а также фирменную технологию сухих фоторезистов Aether, критически важную для работы с High-NA EUV-литографией.

Партнеры намерены построить и валидировать полные технологические маршруты для нанолистовых (nanosheet) и наностековых (nanostack) транзисторных архитектур, а также интегрировать технологию подачи питания с обратной стороны пластины (backside power delivery), которая позволяет существенно снизить взаимные помехи и энергопотребление.

Переход к техпроцессам менее 1 нм затруднен фундаментальными физическими ограничениями: на этом уровне размеров квантовые эффекты и туннелирование электронов становятся значимыми, что вынуждает разработчиков подбирать новые материалы и архитектурные решения. Этим и займутся IBM и Lam.

Vahid Vahedi, технический директор Lam Research, отмечает: «По мере того как отрасль вступает в новую эру 3D-масштабирования, прогресс зависит от переосмысления того, как материалы, процессы и литография объединяются в единую высокоплотную систему».


Это партнерство - не первый и не единственный участник гонки за суб-1нм. Samsung Electronics, например, сформировала проектную команду для разработки 1,0 нм технологии, рассчитывая на ее коммерциализацию после 2029 года. TSMC, в свою очередь, планирует риск-производство по 1,4 нм техпроцессу в 2027 году, а массовое производство - в 2028-м, с инвестициями около 1,5 трлн новых тайваньских долларов в новые контрактные-мощности на центральном Тайване.

Intel не отстает, гендиректор компании подтвердил на Cisco AI Summit планы по запуску 14A (1.4 нм) техпроцесса в режиме риск-производства в 2028 году и массового производства в 2029-м.

Почему это важно

IBM старается держаться на переднем фронте научных разработок, в 2021 году эта компания представила чип 2нм и сотрудничает с японской Rapidus для постановки технологии на массовое производство.

Сотрудничество с Lam - продолжает эти усилия IBM.

Партнерство исследовательской лаборатории с производителем оборудования позволяет быстрее превращать лабораторные инновации в масштабируемые производственные процессы.

Ожидается, что первые результаты сотрудничества IBM и LAM появятся в течение ближайших 2-3 лет, а коммерциализацию технологий суб-1 нм можно ожидать ближе к "волшебному" 2030 году.

✓ подписаться на канал
  • 🔥 1
More from @rusmicro
  1. Oct 5, 2026🇷🇺 Форум Микроэлектроника 2026. САПР. Россия Российские САПР выходят за рамки задачи имп…
  2. Oct 5, 2026🇷🇺 Разработчики микросхем. Радстойкие микросхемы. Госзаказы. Штрафы. Россия НПО "Техноло…
  3. Oct 5, 2026🇨🇳 Производственное оборудование для выпуска кристаллов. Фотолитографы. Китай В США увер…
  4. Oct 5, 2026🇳🇱 ASML делает ставку на дальнейшее развитие лазерно-плазменных источников EUV, несмотря…
  5. Oct 5, 2026🇷🇺 Форум Микроэлектроника 2026. Анонсы. Россия Швабе представила новое поколение матриц…
  6. Oct 4, 2026🇷🇺 Производство микроэлектроники. Новые фабрики. 14нм. Россия ОМК планирует построить 3…
Threads Profile ViewerView any public Threads profile without an account.Open ThreadLook →Writing with AI? Make it sound human.Metric37 rewrites AI drafts so they read naturally. Free AI detector, 1,500 words free.Try Metric37 →