🇨🇳 Фотолитография и геополитика. Технологическая независимость. Китай

Китай призывает к созданию «национального чемпиона» по литографии: «Своя ASML» - «вопрос выживания»

Руководители крупнейших полупроводниковых компаний Китая опубликовали программную статью, в которой открыто признали слабость национальной отрасли и призвали к консолидации ресурсов для создания отечественного аналога нидерландской ASML - единственного в мире производителя оборудования для передовой литографии.

Статью, вышедшую 4 марта в журнале Science and Technology Review, свои подписи поставили девять ключевых фигур индустрии: основатель SMIC Ван Юаньюань, глава Naura Technology Чжао Цзиньжун, председатель YMTC Чэнь Наньсян, руководитель Empyrean (разработчик EDA) Лю Вэйпин и ведущие академики.

Авторы констатируют: отрасль остается «мелкой, фрагментированной и слабой» (small, fragmented and weak), а государственные ресурсы распыляются между тысячами мелких игроков, не способных соперничать с компаниями масштаба ASML.

Западная блокада

В последние годы наблюдается стремление администрации США блокировать развитие Китая, минимум, в трех критических областях:

▫️ EDA-инструменты для проектирования микросхем (доминируют Synopsys, Cadence);
▫️ EUV-литографы, способные производить чипы по нормам 7нм и ниже без необходимости множества "проходов";
▫️ кремниевые пластины и специальные материалы

Проблемы раздробленного рынка

Приводится тревожная статистика: в Китае насчитывается более 100 компаний в сфере EDA, 116 контрактных производителей (OSAT), 185 производителей оборудования для обработки пластин, 224 компании по выпуску упаковочного оборудования и 3626 фирм-разработчиков чипов.
Из них 1769 имеют выручку менее 10 млн юаней, а 87,9% - это малые предприятия с числом сотрудников до 100 человек.

«Россыпь песка не способна собраться в башню», - по-китайски цветасто заявляют авторы, отмечая, что в условиях рынка принудительная консолидация малых предприятий практически невозможна. А без консолидации усилий нельзя ожидать появления чего-то, способного тягаться с ASML. (Похоже на российскую ситуацию?).
Конкретный рецепт не предлагается, поэтому не очень понятно, насколько далеко от рыночных подходов предлагают отойти авторы статьи.

Технологический разрыв

Несмотря на прогресс в отдельных компонентах (лазерные источники EUV-излучения, платформы перемещения пластин, оптические системы), интеграция их в формате работающего промышленного литографа остается главным вызовом 15-й пятилетки (2026–2030).

Государственная поддержка

Сейчас в Китае проходит ежегодная сессия Всекитайского собрания народных представителей. Премьер Ли Цян в правительственном докладе пообещал «зеленый коридор» для финансирования и слияний компаний в сфере ключевых технологий, а также ускоренное создание механизмов поддержки инноваций.

Ранее третий этап государственного инвестиционного фонда Big Fund III объемом около $47 млрд был переориентирован на оборудование для литографии и инструменты проектирования

По оценкам экспертов, лучшие китайские DUV-системы пока что соответствуют уровню ASML Twinscan NXT:1950i, выпущенному в 2008 году и рассчитанному на техпроцесс 32 нм. Даже при успешном выходе на 28 нм, переход к 10 нм и ниже потребует полного перепроектирования оборудования и многих лет разработок.

Цитата

«Раз ключевые технологии нельзя купить, выпросить или потребовать, их остается только создать самим, - резюмируют авторы. - На пути "китайского чипа" встречаются камнепады, ловушки, тернии и змеи, но никакие препятствия не способны остановить возрождение нации».

@RUSmicro / MForum.ru