📈 Новые материалы. Аналитика. Карбидные керамики. Рутений

Новые материалы позволяют создавать лучшие чипы

Компоненты, используемые в технологиях, связанных с использованием плазмы, такие как фокусирующие кольца, футеровки реакционных камер и пластины электростатических зажимов, немало лет изготавливали из кремния. Однако при современных высоких плотностях плазмы эти компоненты быстро подвергаются эрозии и выделяют частицы, которые могут стать источником загрязнений при работе с пластинами и полупроводниковыми структурами.

Поэтому все больше фабрик переходят на карбид кремния (SiC), чья значительно более высокая твердость и устойчивость к плазме могут увеличить срок службы деталей в несколько раз. Ведущие фабрики сообщают о меньшем количестве незапланированных остановок и более низкой стоимости владения, поскольку детали из SiC намного реже требуют замены.

Еще более твердые материалы, такие как карбид бора (B₄C), находятся на стадии оценки; они могут демонстрировать ещё более продолжительный срок службы, но работа с ними сопряжена со сложностями механической обработки, более высокой стоимостью и потенциальными проблемами с загрязняющими частицами, которые необходимо решить перед широким внедрением.

Общий тренд очевиден: переход от кремния к передовым карбидным керамикам становится необходимым условием для поддержания работы оборудования для плазменного травления следующего поколения на пиковой производительности.

@RUSmicro, по материалам отчета PwC Semiconductor and Beyond