چند روزیه تو اخبار تکنولوژی گفته میشه که چین نمونه اولیه دستگاه لیتوگرافی EUV را ساخته و اون رو کنار محصولات ASML قرار می‌دن! ولی اصل ماجرا اینه که ما با یه کپی مهندسی معکوس شده از دستگاه‌های کامپکت Twinscan NXE هلندی طرف نیستیم، بلکه خروجی "پروژه منهتن" که توی شنژنه بیشتر یه تأسیسات عظیمه شبیه یه کارخونه(چیزی شبیه تصویر بالا که یکی از Synchrotronهای چینیه) تا یه دستگاه اندازه اتوبوس داخل کلین‌روم.

چینی‌ها چون به زنجیره تأمین قطعات اپتیک و لیزرهای خاص ASML دسترسی نداشتن، مسیر فیزیک رو عوض کردن و به جای متد LPP که لیزر به قطرات مذاب شناور قلع شلیک می‌شه، رفتن سراغ تکنولوژی SSMB یا یه سینکروترون (Synchrotron) خیلی بزرگ که بتونن نور ۱۳.۵ نانومتری رو با توان بالا ولی در ابعاد یک کارخونه تولید کنن، در نتیجه الان گلوگاه فیزیک پلاسما و تولید فوتون رو شکستن ولی با ابعاد خیلی خیلی عظیم البته با بازدهی تولید خیلی پایین.

در واقع چیزی که الان داره جور صنعت چیپ چین رو می‌کشه و بهشون خروجی ۵ نانومتری میده، این دستگاه جدید نیست، بلکه فشار آوردن روی لیتوگرافی DUV با دستگاه‌های داخلی مثل سری SSA800 و استفاده از تکنیکهای کثیف مهندسی ولی موثر SAQP (Self-Aligned Quadruple Patterning) هست که توش ویفر رو ۴ بار اکسپوز می‌کنن! این روش سرعت تولید رو پایین میاره و مدیریت Overlay Error توش کابوسه، ولی عملاً تحریم رو دور زده و نشون میده که چین حتی با هزینه بالاتر و پروسه کندتر، به استقلال تو لایه‌های حساس سیلیکون رسیده که نهایتاً سرریز این تکنولوژی باعث میشه تو نودهای پایین‌تر دستشون بازتر بشه.

📡openpcb