Опытный образец самого передового отечественного литографа уже готов

▶️ «Зеленоградский нанотехнологический центр» (ЗНТЦ) подписал акт приёмки третьего этапа ОКР по созданию литографа для производства чипов с топологией 130 нм. Предназначен он для переноса топологии интегральных схем на кремниевые пластины диаметром до 200 мм.

До сих пор собственных аналогов такого оборудования в России не было. Литограф должен стать заменой оборудованию Nikon, Canon и ASML, при этом российская разработка отличается использованием собственного источника излучения и отечественных материалов.

Что сделали и сколько стоило.

Работы сданы позже запланированного срока - вместо марта 2026 года они завершились только в августе. Что было сделано:

⏺️ два опытных образца эксимерных лазеров с длиной волны 193 нм (мировой стандарт DUV-литографии)
⏺️ фотошаблоны и тестовые структуры
⏺️ стенд для контроля оптических характеристик
⏺️ отработаны базовые техпроцессы

Основными исполнителями работ выступили белорусское ОАО «Планар» (разработка установки, механических узлов и наладка) и компания «ЛАССАРД» (создание лазеров). В сумме их услуги стоили больше 1 млрд рублей.

🔼 Третий этап ОКР обошелся 2,46 млрд рублей при общем бюджете проекта 5,7 млрд рублей. На материалы и комплектующие потрачено 912,9 млн рублей, на оплату труда - 95,1 млн рублей. Оценка стоимости самой установки - 542,2 млн рублей, каждого лазера - около 50 млн рублей.

Но нужно ещё.

🔽 В 2027 году ЗНТЦ планирует заключить контракты на серийные поставки, но до промышленной эксплуатации ещё далеко: необходимы проверка надёжности, совместимость с действующими линиями и отработка стабильности. Для масштабирования выпуска литографов потребуется господдержка как производителей, так и покупателей.

™️ МашТех в Telegram | в MAX