Без Applied Materials... В России появится своё оборудования для производства кремниевых пластин, но дорого

💻 Минпромторг готов потратить 1,7 млрд рублей на создание отечественного аналога американской установки химико-механического полирования диэлектрических слоев диоксида кремния, вольфрама и меди. Она необходима для изготовления чипов с топологическими нормами от 180 до 90 нм на пластинах диаметром 200 мм.

Как указано в техзадании к госзакупке, отечественная установка станет аналогом американской MIRRA Mesa Integrated System 200 производства Applied Materials. Потребителями оборудования будут заводы "Микрон", "НМ-ТЕХ" и другие отечественные предприятия, использующие химико-механическую полировку в своих процессах.

📆 Комплектующие и материалы, используемые при создании установки, должны быть отечественного производства. Таким образом будет обеспечено отсутствие критической зависимости от иностранных производителей. Работы должны быть завершены 30 ноября 2028 года, и это станет еще одним шагом в рамках комплексной программы развития электронного машиностроения.