Post #262822 3 Oct 7, 2026, 13:41 UTC IT之家 华为余承东:极紫外光刻(EUV)设备是制造先进芯片的关键,国内目前正在研发 Telegraph | 原文 Telegraph 华为余承东:极紫外光刻(EUV)设备是制造先进芯片的关键,国内目前正在研发 - IT之家 IT之家 10 月 7 日消息,华为海外 X 账号昨日发布了 9 月 29 日的国际媒体圆桌会议摘要。华为常务董事、产品投资评审委员会主任、终端 BG 董事长余承东与多家国际媒体的记者就华为消费者业务及 HarmonyOS 生态系统进行了交流。 在被问及关于 AI、硬件与 EUV 的问题时,余承东表示,极紫外光刻(EUV)设备当然是制造先进芯片的关键。中国目前正在研发这些设备,但现阶段国内仍然依靠深紫外光刻(DUV)。逻辑折叠(LogicFolding)技术,是在获取某些技术受到限制的情况下,用来提升能力的一种方法。…