🌟 Как создаётся отечественный литограф?

В ФИЦ ИПФ РАН продолжается работа над российским литографом на длине волны 11,2 нм — ключевой технологией для микроэлектроники будущего. Почему выбран именно этот диапазон и какие технологические решения лежат в основе проекта?

Ответы на эти и другие вопросы в интервью заведующего лабораторией лазерных ускорителей и астрофизической плазмы ИПФ РАН Александра Соловьева для «Наука Mail»

Смотреть здесь 🫲