🌝 Сотрудники ИПФ РАН и ИЯФ СО РАН создали плотную и горячую плазму для получения экстремального ВУФ-излучения

Сегодня литография в экстремальном ультрафиолете — передовая технология в микроэлектронике. Для этой технологии за рубежом используют плазму, которую получают при облучении капли олова высокочастотным лазером. Однако при испарении олова образуются твердые отложения, которые оседают на оптических элементах. Поэтому российские физики работают с лазерной плазмой из газа атмосферного давления — ксенона.

Ученые проводят эксперименты на уникальной исследовательской установке ИЯФ СО РАН — лазере на свободных электронах (НЛСЭ), на которой можно создавать стабильный и непрерывный терагерцевый лазерный разряд.

Подробнее об исследовании на сайте РНФ 🫲

#ипфран #ипфран_в_сми