✨ Китай создаст собственные продвинутые литографические системы к 2030 году

Глава NVIDIA заявил в All-In Podcast, что Китаю потребуется ещё несколько лет для освоения продвинутого литографического оборудования. По его мнению, сильная сторона страны - способность быстро масштабировать технологии до массового производства.

При этом Хуанг не уточнял, идёт ли речь именно об EUV и сможет ли китайское оборудование сравниться с актуальными системами ASML по производительности, точности и надёжности.

Китай уже развивает собственные DUV-литографы, однако их возможности пока заметно уступают современным решениям ASML. Отдельно сообщалось и о китайском прототипе EUV, но до массового производства чипов на таком оборудовании ещё далеко.

Оценка Хуанга остаётся прогнозом: официальной дорожной карты, подтверждающей появление конкурентоспособного литографа к 2030 году, нет.

#Тeхнoлoгии