Материалы, промышленный запрос и машинное обучение: ФИЦ ПХФ и МХ РАН на форуме «Микроэлектроника 2026»

Каким должен быть компонент фоторезиста, чтобы материал получил нужные свойства? Можно ли заранее рассчитать поведение материала в технологическом процессе - или, наоборот, подобрать его состав под заданные характеристики?

За производством современных микросхем стоят не только химический синтез, но и математическое моделирование, вычислительные методы и машинное обучение. Именно эти направления сотрудники ФИЦ ПХФ и МХ РАН представят на форуме «Микроэлектроника 2026».

Заведующий лабораторией фоточувствительных и электроактивных материалов, кандидат химических наук Александр Аккуратов едет на форум в четвёртый раз. Уже много лет цель таких визитов - рабочие контакты с предприятиями, которым нужны разработки его лаборатории.

Одно из её направлений связано с компонентами фоторезистов - светочувствительных материалов, с помощью которых формируют рисунок будущих элементов микросхемы. Среди таких компонентов - функциональные мономеры и фотогенераторы кислоты; их состав и свойства напрямую влияют на характеристики готового фоторезиста.

На «Микроэлектронике 2026» Александр представит результаты трёх технологических проектов и новые разработки лаборатории. Один из докладов посвящён реакторному синтезу компонентов фоторезистов для глубокой ультрафиолетовой литографии. Форум даст возможность обсудить эту работу с потенциальными заказчиками: какие компоненты им нужны, какими свойствами они должны обладать, какие задачи могут лечь в основу следующих разработок.

Для старшего научного сотрудника лаборатории вычислительной гидродинамики, кандидата физико-математических наук Игоря Кравченко поездка на «Микроэлектронику» станет первой. Причина - два новых направления работы, напрямую связанных с задачами отрасли.

Первое - применение машинного обучения для прогнозирования свойств материалов. В частности, исследователи изучают сополимеры для электронно-лучевой литографии: математические методы позволяют предсказывать свойства материала по его составу и решать обратную задачу - подбирать состав под нужные характеристики.

Второе направление - наноимпринтная литография, в которой рисунок формируют с помощью рельефного шаблона. Игорь и его коллеги исследуют, как материал заполняет микро- и наноразмерные полости и как на этот процесс влияет скольжение вдоль их стенок. Такие расчёты важны и при разработке оборудования для наноимпринтной литографии - это ещё одна задача лаборатории.

Оба направления станут темой устных докладов. На форуме их можно будет обсудить с представителями предприятий: что из разработок востребовано уже сейчас и что может стать основой для совместной работы в будущем.