Zeiss: Китаю потребуется 15 лет, чтобы догнать Запад в EUV-литографии

На создание собственного оборудования для литографии в экстремальном ультрафиолетовом диапазоне (EUV) у Китая может уйти около 15 лет, считает Франк Рохмунд, руководитель полупроводникового подразделения немецкой Zeiss Group. При этом он отметил, что темпы китайских разработок трудно оценить количественно. В Zeiss раскритиковали американские санкции, подчеркнув, что жесткие экспортные ограничения не столько изолируют Пекин, сколько стимулируют его форсировать внутренние разработки и импортозамещение в микроэлектронике.

https://hightech.plus/2026/09/04/zeiss-kitayu-potrebuetsya-15-let-chtobi-dognat-zapad-v-euv-litografii