Китайская Langdao Silex показала прототип собственного EUV-источника

Китайская Langdao Silex впервые публично показала прототип собственного источника излучения для EUV-литографии. Компания заявляет, что 90 % компонентов системы произведены в Китае, а серийный запуск может занять ещё 3–5 лет.

Представленный источник FlintNano LPP-OXXO рассчитан на выходную мощность EUV выше 15 Вт и использует лазерно-индуцированную плазму. Однако до уровня промышленных EUV-систем, где нужны сотни ватт и высокая стабильность в долгой работе, компании ещё предстоит пройти большой путь.

@forgeeks | @forgeeksflash