Китайская Landau Flint показала EUV-источник локализацией 90%

Китайская Landau Flint впервые публично показала прототип источника экстремального ультрафиолетового излучения для фотолитографии микросхем. Компания утверждает, что установка уже подходит для испытаний чипов, но до серийного выпуска ей ещё нужно 3–5 лет.

Сейчас заявлены мощность EUV-излучения более 15 Вт и стабильная работа свыше 100 часов, однако для промышленного уровня этого пока недостаточно. Для коммерческих систем нужны источники мощностью в сотни ватт и высокая надёжность в длительном режиме.

@forgeeks | @forgeeksflash