ASML разрабатывает Hyper NA для печати элементов чипов 5 нм

ASML вместе с Carl Zeiss работает над следующим поколением EUV-литографии Hyper NA. Новая система должна сохранить длину волны 13,5 нм, но увеличить числовую апертуру, чтобы печатать элементы размером около 5 нм.

По оценке разработчиков, Hyper NA появится примерно через десять лет. Для более тонких техпроцессов в будущем, вероятно, потребуется уже свет с более короткой длиной волны.

@forgeeks | @forgeeksflash