Российский центр завершил разработку литографа для 130-нм чипов

Российский центр сообщил о завершении третьего этапа работ над литографической установкой для обработки 200-миллиметровых пластин по техпроцессу 130 нм. По данным CNews, это первая разработка центра с такими возможностями, однако пока речь идет именно о завершении этапа разработки, а не о готовом к массовому производству оборудовании.

@forgeeks | @forgeeksflash