ASML против Китая: Дженсен Хуанг уверен, что КНР создаст EUV-литографию к 2030 году

Глава Nvidia Дженсен Хуанг считает, что Китай сможет самостоятельно разработать оборудование для передовой литографии уже к 2030 году. Однако эксперты сомневаются в этом прогнозе: сейчас китайские компании заметно отстают даже в DUV-литографии, а по EUV у них пока нет рабочих прототипов сканеров.

Несмотря на успехи Китая в массовом производстве и разработке ИИ, в полупроводниковом оборудовании путь к паритету с ASML остаётся очень долгим. Даже при ускоренном развитии собственных технологий реальное сокращение отставания может занять значительно больше времени.

@forgeeks | @forgeeksflash