Samsung и ASML готовят следующую технологию производства чипов 💻🔬

Samsung и ASML расширили сотрудничество в производстве полупроводников.

Одна из главных технологий — High NA EUV, новое поколение литографии, которое позволит создавать еще более сложные и компактные чипы. Samsung планирует использовать такие установки в массовом производстве памяти DRAM к 2028 году.

Компании также будут развивать переход от привычных 6-дюймовых фотомасок к 12-дюймовым.

Звучит очень технически, но именно через такие технологии появляются новые поколения процессоров.

Сначала инженеры учатся точнее наносить микроскопический рисунок на пластину. А спустя несколько лет мы получаем более мощный смартфон или ноутбук. ⚡️

Большие изменения в электронике часто начинаются на фабрике, которую обычный пользователь никогда не увидит.