阿斯麦反对美国扩大对华光刻机出口限制，警告可能加快中国自主研发

荷兰光刻机制造商阿斯麦首席财务官戴厚杰10月14日表示，公司反对美国国会提出的进一步限制对华销售浸没式深紫外光刻机的法案，认为这可能适得其反，加快中国研发替代设备。

戴厚杰在阿斯麦公布第三季度业绩后举行的记者电话会议上说，限制中国获得浸没式光刻技术，可能拖慢中国的发展，但无法阻止中国自主研发半导体制造设备。他认为，如果相关法案在美国中期选举后获得通过，将进一步推动中国开发竞争技术。

这项名为《硬件技术管制多边协调法案》的提案，旨在推动美国与荷兰、日本等半导体设备供应国统一出口限制，重点涉及浸没式深紫外光刻机等关键设备，以及相关售后服务。

戴厚杰表示，他仍乐观地认为，决策者最终会作出理性判断。