Японский учёный решил давнюю проблему EUV-литографии — новая оптика кратно удешевит производство передовых чипов

Учёный из Окинавского института науки и технологий (OIST) предложил радикально упростить оптическую схему EUV-литографии — ключевой технологии, с помощью которой сегодня производят самые передовые микросхемы. Профессор Цумору Синтакэ (Tsumoru Shintake) разработал вариант high-NA EUV-системы с линейной геометрией, где фотомаска, проекционная оптика и кремниевая пластина расположены на одной оси в отличие от нынешних промышленных сканеров.

https://3dnews.ru/1143678/yaponskiy-uchyoniy-reshil-davnyuyu-problemu-euvlitografii-novaya-optika-kratno-udeshevit-proizvodstvo-peredovih-chipov

🤩 в МАХ 💬| ВК 💙